Hunter 铜离子滴灌管 (HDL-COP) 为地下滴灌管应用提供三重保护，具有排水缓慢的止溢阀、卓越的抗砂性能和注入氧化铜的滴头，可防止根系生长。氧化铜已被证明可以抑制根系生长并防止根系入侵滴头。排水缓慢的止溢阀将根系引离滴头并防止啮齿动物的破坏。滴头配有多个进口过滤器和全尺寸出口池，可最大限度地提高抗砂性能，同时形成根系和杂质屏障。Hunter 铜离子滴灌管经过精心设计，经久耐用，可为您的所有地下灌溉需求提供持久、高性能的补充解决方案。
Hunter 铜离子滴灌管具有三道强大的防根系入侵防线，为地下灌溉应用提供无与伦比的性能和可靠性。
- 注入氧化铜的滴头可抑制根系生长
- 排水缓慢的止溢阀将根系引离滴头并防止啮齿动物的破坏。
- 多个进口过滤器和全尺寸出水池最大限度地提高了抗砂性能
- 地下灌溉依靠土壤中的毛细管作用将水均匀地分配到整个区域。压实土壤以确保毛细管作用，同时为植物生长提供健康的环境。
- 清除土壤中的尖锐物体和杂质，以促进毛细管作用并防止损坏滴灌管。
Hunter 铜离子滴灌管可以安装在土壤表面下方 2 英寸至 12 英寸（5 厘米至 30 厘米）处，用于直接灌溉根系区域。地下灌溉可最大限度地提高应用效率并减少蒸发和地表径流造成的水流失。
有些景观需要曝气或土壤管理。将滴灌管安装在曝气深度以下，以防止损坏和泄漏。
地下灌溉在频繁的应用日和较短的运行时间内效果最佳。目标是保持滴灌管周围的土壤湿润，同时防止过度饱和，否则会导致水分流失和植物材料性能不佳。
在生长期间可能需要临时灌溉，以促进根系生长至 Hunter 铜离子滴灌管的深度。在成长期，考虑使用 Hunter 铜离子滴灌管和临时灌溉解决方案（例如 MP 旋转射线™喷嘴和 MP Rotator Stake Kit）进行灌溉。
顶部灌溉系统可清洁植物材料，清除灰尘和杂质，从而促进植物健康生长。考虑使用 MP 旋转射线喷嘴或 Pro-Spray™ PRS40 喷头体安装灌溉冲洗系统，以补充 Hunter 铜离子滴灌管地下灌溉系统。
安装带有 PLD-LOC 接头的 Hunter 铜离子滴灌管，以实现卓越的滴灌管连接和更快的安装时间。安装人员应在回填和埋设滴灌管之前测试所有连接，以确保功能正常。
空气/真空排气阀：地下灌溉系统需要空气/真空排气阀来防止管道塌陷和水锤损坏。在 Hunter 铜离子滴灌管地下系统的最高点在 Hunter 多功能箱体中安装 Hunter AVR-075 排气阀，以确保持久的性能。
冲洗阀：冲洗阀允许通过定期维护实践冲洗滴灌管中的杂质。在 Hunter 铜离子滴灌管地下灌溉系统的最低点和末端的 Hunter 多功能箱体中安装 Hunter PLD-BV 手动冲洗阀，以确保最佳性能。
Eco-Indicator：使用 Hunter Eco-Indicator 确认系统正常运行，压力充足。。高度可见的 6 英寸或 12 英寸（15 厘米或 30 厘米）黄色立管弹出，压力至少为 12 PSI (0.8 bar; 83 kPa)，这表明系统具有充足的压力性能。在地下灌溉系统的起点和终点安装 Eco-Indicator，以衡量系统的运行和性能。
为了获得先进的根系侵入保护和输水效率，请尝试使用毛毯包裹的滴灌管的 Eco-Wrap 系统。Eco-Mat 滴灌毯系统可进一步提高您的系统性能，该系统将毛毯包裹的滴灌管与创新的毛细管垫相结合，可实现无与伦比的效率并最大限度地防止根系入侵。这个功能丰富的系统搭配 Hunter 铜离子滴灌管，克服了当今地下灌溉应用中最突出的挑战。